氯化氢

    氯化氢气体为强刺激性，不燃气体，溶水后有强烈腐蚀性。产品包装于高压专用钢瓶中，处于液态。专用钢瓶为钢质无缝气瓶，瓶内抛光处理。瓶阀为抗腐蚀不锈钢隔膜阀。钢瓶设计压力为12.5Mpa,工作压力约5-6Mpa。
    氯化氢氧化平衡的计算和分析,提出将反应-脱水耦合技术应用于氯化氢氧化过程中,研究了反应-脱水耦合的模拟工艺.结果表明,在氯化氢连续氧化的过程中,增加脱水过程能有效提高氯化氢的反应转化率.考察了在氧气不过量情况下的多步脱水循环过程,结果显示提高二次氧化反应的温度可明显提高氯化氢的转化率,在HCl/O2摩尔比为8:1的条件下经过多步脱水循环反应,氯化氢的总转化率可以达到49.3%,反应混合气中氧气的体积含量低于0.2%.该混合气可直接用于有机氯化过程.
    化学级氯化氢产品生产装置于1993年投产，经山东省科委鉴定，主要用于医药中间体、农药及精细化学品制造业。电子级(VLSI)氯化氢产品生产装置于2003年投产，经北京市科委鉴定，主要用于半导体器件生产中单晶硅片的气相抛光、外延基座腐蚀及硬质合金制造。5.0N电子级(VLSI)氯化氢产品分别经国家标准物质研究中心和信息产业部专用材料质量监督检验中心抽样检验，纯度大于99.999%，总杂质含量小于5ppm，产品性能指标与国 际品牌相当。5.0N电子级(VLSI)氯化氢产品经国内外多家半导体重点企业连续大量在单晶硅片气相抛光和外延基座腐蚀工艺中广泛使用，制得的器件产品质量与国际知名品牌相当。超纯氯化氢产品生产装置于2005年投产，目前处于试销阶段，主要用作标准物质和科学研究。